真空镀膜浅谈-镀膜类型

真空镀膜被用来保护从医疗工具到航空航天零件的所有东西。它们帮助物体抵抗磨损、摩擦、严酷的化学物质和热量，使它们能持续更长时间。与其他保护涂层不同，薄膜沉积（真空）涂层不会带来不必要的副作用-其他涂层技术有可能使工具超出公差或增加过多的厚度，从而导致零件的性能不符合设计要求。

那什么是真空镀膜呢？真空镀膜，又称薄膜沉积，是一种真空室工艺，在基底表面涂上一层非常薄且稳定的涂层，以保护其免受可能磨损或降低其效率的力的影响。真空涂层很薄，厚度从0.25到10微米（0.01到0.4千分之一英寸）。

简明扼要来说它就像一套盔甲，保护骑士，提高他的表现。  

真空镀膜细细分来，针对不同的行业产品，也有不同的镀膜类型分类，一起来探讨下吧。

1、PVD涂层
物理气相沉积涂层（PVD）是我们最常用的真空室镀膜工艺。将要涂层的零件放置在真空室内。将用作涂层的固体金属靶材在真空下蒸发。来自汽化金属的原子以接近光速的速度运动，并嵌入真空室的零件表面。为了确保物体的正确区域被覆盖，在PVD过程中，零件被小心地定位和旋转。

技术核心思想:使用厚度仅仅数微米的二维材料对材料表面进行保护，实现工具的使用寿命和使用性能得到显著提升，获得低成本下高效率的效用，适用于小型精密工件的表面强化。 

PVD涂层能应用于各类需要机械接触的耐蚀耐磨零件上，比如在GCr15轴承环上镀CrN涂层，中性盐雾试验到300h，能够取代不环保的电镀硬铬工艺，同时表面硬度更高。

PVD硬质涂层还可以作为装饰性涂层，调整工艺能制备不同颜色，应用在各类卫浴和高端五金件上获得美观的外表，不仅具有良好的耐腐蚀性-中性盐雾试验超过300小时，还具有良好的耐磨性，不易磨损和刮花，能长时间保持表面高质量。

2、溅射镀膜
溅射是另一种PVD涂层，用于在物体上沉积导电或绝缘材料涂层。在溅射过程中，使用电离气体烧蚀或缓慢去除目标材料（覆盖零件的材料）上的金属。烧蚀后的金属通过真空室，覆盖在目标上方或下方的所需部位。

大约于1858年，英国和德国的研究者先后子实验室中发现了溅射现象。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶)，使固体原子(或分子) 从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的荷能粒子可以是电子、离子或中性粒子，因离子在电场下易于加速并获得所需动能，故大多采用离子作为轰击粒子。该离子又称入射离子，这种镀膜技术又称为离子溅射镀膜或淀积。与此相反，利用溅射也可以进行刻蚀。淀积和刻蚀是溅射过程的两种应用。溅射镀膜技术经历了缓慢的发展过程，1955年，Wehner提出高频溅射技术后，溅射镀膜发展迅速，成为了一种重要的光学薄膜工艺。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。 

3、阴极电弧
阴极电弧是一种PVD方法，它使用电弧放电蒸发材料，如氮化钛、氮化锆或银等。蒸发的物质覆盖在真空室中的零件上。

上世纪80年代推广真空阴极电弧镀TiN，很快席卷全球，90年代掀起了阴极电弧镀膜热，成为硬质保护膜生产主流技术，广泛应用在工具镀、装饰镀和特殊功能镀膜领域。 

4、原子层沉积
原子层沉积（ALD）对于硅涂层和复杂尺寸的医疗器械非常有用。通过交替室内的化学物质，涂层的化学成分和厚度可以用原子精密度来控制。这意味着它可以提供最完整的涂层类型之一，即使对于尺寸非常复杂的零件。

原子层沉积是一种化学气相沉积技术，可以在原子层规模上进行表面控制，均匀且优异的保形膜生长。表面控制的薄膜生长是ALD的独特功能，它基于气相前体分子与活性表面物质之间的顺序性，自限性化学反应。在典型的ALD过程中，至少两个气相前体被顺序地脉冲到衬底所在的反应空间中。 

真空镀膜在各个行业领域都能看到它的踪影，比如医疗，钟表，电子，五金，餐具产品等等。作为镀膜行业的得力助手，当然也少不了英能电源的添砖加瓦。

英能电源的作用就是确保镀膜过程中电压的稳定性，镀膜效率高，使膜层致密，保持较好地光洁度。

• 英能电源致力于PVD镀膜设备电源的研发和生产，
• 有为PVD溅射镀膜设备配备的中频磁控溅射电源；单极性脉冲电源；
• 针对塑胶产品PVD镀膜的蒸发镀设备，有与之配套的离子源电源；
• 为客户量身定制不同参数电源，等离子矩电源，小功率脉冲直流电源、hipims电源等。