一般真空镀膜技术

我们了解到有很多的高新技术产品都采用离子镀膜技术，什么是离子镀膜技术呢？来了解离子镀膜技术。离子镀膜技术是在一般镀膜技术的基础上发展起来，先看下一般镀膜的过程，一般镀膜过程就是气态物质沉积在零件的表面，形成固态薄膜的过程，那气态物质如何来呢？一种是直接通入反应气体，一种是把固态物质蒸发或溅射成膜层粒子，也就是气态物质沉积在工件表面形成固态。

离子镀膜技术是怎样呢？首先也要得到气态膜层粒子，这些气态膜层粒子不是直接到达零件的表面形成固态薄膜，而是首先膜层粒子在真空气体放电中被电离成膜层离子，膜层离子在工件所加负压的吸引下高速到达零件表面，高能态膜层粒子在零件表面形成固态薄膜的过程。溅射镀膜是氩气在真空镀膜中被电离，氩离子轰击靶材得到膜层原子，广义离子镀膜技术就是在气体放电中进行镀膜的技术都叫离子镀膜技术。

首先来了解气态物质源的一般过程就是直接通入反应气体，以获得氮化钛薄膜为例，通入的气体有四氯化钛+氢气+氮气，最后生成固态物质氮化钛，排除氯化氢气体，这种过程是要在1000度温度下进行的，也就是要在1000度温度下通入这些气体才能进行热分解，在反应室内1000度高温提供了分解的能量，然后在1000度高温工件上进行化合获得氮化钛固态膜层排除尾气，这是一个用热源提供的镀膜的反应过程，是一个化学过程，热分解热化合的过程，所以叫化学气象沉积，英文名叫chemical vapor deposition,简称CVD。

固态物质源的一般过程，是在高真空中，将固态物质加热蒸发成为蒸汽1000-2000，蒸汽源在高真空中飞向工件形成薄膜，属于物理气相沉积，简称PVD，这个示意图是真空蒸发度，下面的是蒸发源，上面的是工件，膜层材料在蒸发源中被高温蒸发出来，在高真空中飞向工件，在工件表面形成薄膜，所以这两种薄膜形成的过程都是靠加热提供的能量进行的镀膜。

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