作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2022-12-14
在磁控溅射镀膜行业中，大家对中频电源再熟悉不过了，但是大家对中频电源的应用原理还不是太清楚，今天我们就来谈谈中频磁控溅射电源可以克服靶中毒，使反应镀膜速率加快的现象。
磁控溅射中的靶中毒就是在靶面上沉积了绝缘膜，所以氩离子不能进入阴极靶材，而且阳极上也沉积的绝缘膜，电子也达到不了阳极，产生了阳极消失现象。随着绝缘膜的加厚，靶电压突然降低，电流突然增大，产生打火现象，使镀膜过程停止。这些现象中和为靶中毒现象。当完全呈现靶中毒时，就很难恢复正常的磁控溅射过程。中频电源可以消除靶中毒，是因为中频电源的电极分别接在两个孪生靶上，电子在两个靶中间来回震荡，电子到达了堆积了正离子的靶面时，电子可以和正离子中和，消除或减轻靶中毒，采用中频电源要配孪生靶，所谓孪生靶也就是两个临近的靶，可以是平面非平衡磁控溅射靶，也可以是两个柱状磁控溅射靶，这两个靶分别接中频的一个极，相互之间互为阴阳极。电子在两级间高速震荡，碰撞氩气电离，氩离子的密度大，金属离化率高，容易形成化合物膜。也可以获得绝缘膜。所以中频电源镀的膜层更细腻。中频电源可以提供在这么大的靶上镀绝缘膜，这在射频电源来说很难做到。
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