作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2022-12-13
中频磁控溅射电源是大家都比较熟知的磁控溅射电源，但是在这之前常用的是直流磁控溅射电源和射频电源，算得上是真空镀膜行业的一大进步，下面就来了解中频电源有哪些优势。
磁控溅射之前是采用直流电源，靶材接负极。但是直流辉光放电的密度小，因此溅射的速率低，采用中频电源，频率有20KHZ，40KHZ、100KHZ，中频电源的两个极接两个磁控溅射靶，放电以后，两个极的极性迅速发生变化，是两个靶的带电粒子做震荡运动，增加了电子与氩气的碰撞机率，靶电流密度增大，沉积速率提高，还可以克服靶中毒获得绝缘膜，比如氮化硅、氧化铝。
在沉积高新技术产品中很多都需要镀绝缘膜。在采用中频电源之前，镀绝缘膜是采用射频电源，射频电源的频率是13.56MHZ，靶材是化合物靶，但是化合物的溅射速率比纯金属的速率低，另外射频电源对人体有辐射有危害，对周围的弱点仪器有干扰，必须有可靠的屏蔽措施，价格也比较归而且功率比较小，做不了很大震荡，镀膜的功率也很小。采用中频电源可以克服靶中毒，使反应镀膜速率加快。
综上所述，可以了解到中频电源的优势很大，针对沉积速率这个功能的应用，英能推出的一款频率更高的高频中频电源，在沉积速率和离化率方面有很大的改善。如有兴趣了解来电咨询18025476062.
