作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2022-06-08
HiPIMS电源有很多的优点，也有很多的缺点，它的沉积速率只有直流磁控溅射电源的15%-70%，还有时会有打弧现象，原因就是在脉冲期间，靶材上加较高的负靶压，反而金属离子重新回吸到靶面上，产生“回吸现象”，使沉积速率降低。
近年来电源厂商在改进上做了很多的工作，包括以下几方面：负极双极脉冲，正负交变双极脉冲电源，动态反向脉冲电源，脉冲尾部瞬时正电压电源，HIPIMS与偏压电源同步工作控制电源，沉积速率和膜层质量上都有一定的进步，所以有些生产电弧离子镀的厂商也采用了HiPIMS技术，在沉积无氢DLC硬质涂层获得了新的突破。
HiPIMS电源近年不断的发展，我司在这方面的领域也颇有研究，也有推出这方面的电源，欢迎大家垂询！
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