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真空镀膜技术

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真空镀膜技术对设备有哪些基本的技术要求?

作者:深圳市英能电气有限公司

时间:2023-07-07

  真空镀膜技术我们都不陌生,真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

  真空镀膜电源:

  1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。

  2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。

  3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱

  4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。

  5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。

  6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。

  7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。

  8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持工作稳定。

  9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的大小,均按GB/T11164-1999中的4、4、6

  深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业,主要产品:中频磁控溅射电源、单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源,阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源,HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证,拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线:137-1700-7958

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