作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2022-04-27
离子镀膜技术可能大家并不陌生，但是具体有哪些种类具体又如何细分想必并不是太清楚，小编今天带您走进我们离子镀膜技术中的多弧离子镀。
多弧离子镀是把真空弧光放电用于蒸发源的镀膜技术，也称真空弧光蒸镀法。蒸镀时阴极表面出现许多非常小的弧光辉点，把这种技术实用化的美国 Muli-Arc公司的译名译为多弧，所以一般称为多弧法。如果在工作室中通入所需的反应气体，则能生成膜层致密均匀、附着性能优良的化合物膜层。多弧离子镀可设置多个弧源，为了获得好的绕射性，可独立控制各个源。这种设备可用来制作多层结构膜、合金膜、化合物膜。
多弧离子镀有以下的特点∶
1、从阴极直接产生等离子体，不用熔池，弧源可任意方位、多源布置;
2、设备结构较简单，不需要工作气体，也不需要辅助的离子化手段，弧源既是阴极材料的蒸发源，又是离子源，而在进行反应性沉积时仅有反应气体存在，气氛的控制仅是简单的全压强控制;
3、离化率高，一般可达60%～80%，沉积速率高;
4、入射离子能量高，沉积膜的质量和附着性能好;
5、采用低电压电源工作，较为安全。多弧离子镀的应用面广，实用性强，特别在高速钢刀具和不锈钢板表面上镀覆 TiN 膜层等方面发展最为迅速。
一个好的镀膜技术当然也需要有一个好的硬件配套，也就离不开一台给力的电源的助力，今天小编带你走进英能公司，这里有很好的电源提供给大家，可以说是应有尽有，常规电源中频磁控溅射电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源、脉冲偏压电源和双极脉冲偏压电源、弧电源和离子源电源，当然还可以定制，能基本满足PVD镀膜技术中的电源需求，还不赶紧拿起手机订购，说不定还有意外惊喜等着您！您的满意是英能不变的初衷！
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