作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2022-11-15
PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。使用到的电源主要有中频磁控溅射电源、脉冲偏压电源、单极性脉冲磁控溅射电源等。
真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。
溅射镀膜基本原理：充氩（Ar）气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩（Ar）原子电离成氩离子（Ar），氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。
离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。
针对蒸发镀膜技术，我们有清洗工件表面的离子源电源；针对溅射镀膜技术我司研发了中频磁控溅射电源、脉冲偏压电源、单极性脉冲磁控溅射电源；针对离子镀膜技术我司精心设计了脉冲偏压电源和双极脉冲偏压电源，能基本解决行业内遇到的一些问题，有问题欢迎随时了解咨询，您的满意是我们不皆的动力。
