作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2023-04-30
真空镀膜溅射电源弧能量是指在真空镀膜溅射过程中，产生的弧光能量大小。真空镀膜溅射过程中，电极产生的弧光能量通过电子轰击靶材表面，使靶材上的原子或分子从表面挥发并沉积到基材上形成薄膜。弧光能量大小直接影响了沉积薄膜的质量和产量。
弧光能量的大小与真空镀膜溅射电源的参数设置有关，如电压、电流、极间距等。在实际操作中，需要根据目标薄膜的要求和设备的实际情况，合理调整真空镀膜溅射电源的参数，以达到最佳的弧光能量大小和沉积薄膜的质量和产量
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