作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2023-04-17
脉冲磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术，其具有高质量、高纯度、高密度及良好的控制性能等优点。脉冲磁控溅射电源是把直流电源转换成为高频交流电源的一种特殊形式，利用交流电流在磁场作用下产生电子密集度高的等离子体，通过等离子体将靶材表面物质抽离并沉积于衬底上，从而形成薄膜。
脉冲磁控溅射电源饶射性特点主要表现在以下几方面：
1. 稳定性好：脉冲磁控溅射电源可以产生高频电流，这使得等离子体的稳定性更好。同时，其具有较为精确的控制系统，可以保证溅射过程的稳定性。
2. 溅射速率高：脉冲磁控溅射电源可以产生高功率的等离子体，从而使得溅射速率更快、效率更高。
3. 薄膜均匀性好：由于脉冲磁控溅射电源具有较好的稳定性和高溅射速率，因此产生的等离子体能够均匀地覆盖靶材表面，使得形成的薄膜均匀性更好。
4. 系统组成简单：脉冲磁控溅射电源由直流电源转换而来，因此其系统组成比传统的高频电源更为简单，便于维护和操作。
脉冲磁控溅射电源具有饶射性特点明显，能够满足现代化薄膜制备技术对高品质、高效率、高精度的要求。
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