作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2023-03-31
真空镀膜技术已成为电子、光电、机械等行业中不可或缺的制造工艺。它通过在材料表面上蒸发或离子镀等方法将薄膜沉积在基材上，使其表面具有不同的光学、电学、热学、机械等特性。而真空镀膜靶材则是实现该过程的重要元素之一。
真空镀膜靶材在制造工艺中扮演着至关重要的角色，其种类多样，可根据基板性质和镀膜要求选用不同的材料。其主要分类包括：
1. 金属靶材：如铬、铜、铝、钛、铁、银等，在制造薄膜光学镜片、太阳能电池等方面广泛应用。
2. 溅射陶瓷靶材：如氧化物、碳化物、硫化物等，可用于制造保温层、摩擦材料、传热材料等。
3. 光学薄膜靶材：如氧化物、氟化物、贵金属、稀土元素等，用于制造高性能光学器件。
4. 复合靶材：将不同材料制成复合靶材，可用于制造多层膜、防反射膜等。
以上是常见的几种真空镀膜靶材，不同的材料在制造过程中会有不同的反应机制和反应速度，进而影响到薄膜的质量和厚度均匀度。因此，在选择靶材时需根据具体的产品要求和生产工艺来选择，以保证薄膜镀层的质量和稳定性。
