作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2024-07-08
磁控溅射的种类主要包括以下几种：
直流磁控溅射(DC Magnetron Sputtering)：
在直流电场下，通过以靶材为阴极的方式，产生靶材表面的离子化，再将离子加速后轰击基板，形成相应的薄膜。
射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)：
利用射频交变电场和靶材表面离子化二次放电的机制进行溅射，具有高离子密度、均匀载流、高生产效率等特点。
高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulse Magnetron Sputtering)：
利用高能量脉冲放电方式来产生短时高功率的等离子体，得到高质量的薄膜材料。
悬浮靶磁控溅射(Suspended Target Magnetron Sputtering)：
将靶材悬浮在气体中，通过外加磁场，使靶材受力的平均方向与离子轰击方向垂直，形成薄膜。
离子束溅射(Ion Beam Sputtering)：
在真空环境下，通过发射离子束轰击靶材表面，以获得高质量、高纯度、厚度均匀和优良附着性的薄膜等。
磁控溅射技术中，不同种类的溅射方法各有其特点和应用范围。例如，直流磁控溅射因其设备简单、易于控制而得到广泛应用;射频磁控溅射则适用于制备高质量、高均匀性的薄膜;高功率脉冲磁控溅射则因其能够产生高质量的薄膜材料而备受关注。
此外，磁控溅射还包括平衡式和非平衡式靶源，其中平衡式靶源镀膜均匀，多用于半导体光学膜;非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强，多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，又可分为平衡态磁控阴极和非平衡态磁控阴极，它们各有其特点和应用场景。
总之，磁控溅射的种类多样，可以根据不同的需求和应用场景选择合适的溅射方法。
深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业，主要产品：中频磁控溅射电源、单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源，阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源，HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证，拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线：137-1700-7958
