作者：深圳市英能电气有限公司
时间：2024-07-12
离子镀膜的原理及种类可以按照以下方式清晰地分点表示和归纳：
离子镀膜原理
离子镀膜技术是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术。该技术利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。在离子镀膜过程中，工件(基片)带负偏压，工件始终受高能离子的轰击。这种技术大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域。
离子镀膜种类
离子镀膜可以分为两大类：
金属离子镀膜
定义：金属离子镀膜是指将金属离子沉积到基材表面上，以增加其硬度、耐磨性和耐腐蚀性。
常见技术：
镀铬：将铬离子沉积到基材表面，提高基材的硬度和耐腐蚀性，使其具备更好的耐磨性和耐高温性能。
镀镍：将镍离子沉积到基材表面，增加基材的硬度和耐腐蚀性，同时还能提升其光泽度和装饰性。
镀银：将银离子沉积到基材表面，使基材具备良好的导电性和抗氧化性能，同时提升外观质感和装饰效果。
非金属离子镀膜
定义：非金属离子镀膜是指将非金属离子沉积到基材表面上，以改善其特定性能。
常见技术：
氮化：将氮离子沉积到基材表面，增加基材的硬度、耐磨性和耐腐蚀性，改善其表面光洁度和抗氧化性能。
氧化：将氧离子沉积到基材表面，形成一层氧化膜，提高基材的耐磨性、耐腐蚀性和绝缘性能。
碳化：将碳离子沉积到基材表面，增加基材的硬度和耐磨性，改善其耐腐蚀性和导热性能。
总结
离子镀膜技术通过特定的物理或化学过程，将金属或非金属离子沉积在基材表面，从而改善基材的性能。这种技术在现代工业生产和科研领域中具有广泛的应用，可以根据不同的需求选择适合的离子镀膜技术来提升材料的性能和质量。
深圳市英能电气有限公司是一家集真空镀膜电源/PVD镀膜电源的研发、生产与销售为一体的高科技企业，主要产品：中频磁控溅射电源、单极性脉冲偏压电源/双极性脉冲偏压、直流偏压电源、直流磁控溅射电源、单极性脉冲磁控溅射电源，阳极电源、离子源电源、弧电源、高功率脉冲磁控溅射电源，HIPIMS电源等。已获高新技术企业、iso9001认证，拥有专利多份。产品已获得ce、rohs认证。专注提供真空镀膜电源及工业控制领域的解决方案。咨询热线：137-1700-7958
